低温color filter像素化技术 待解决
收藏- 学科领域：电子信息技术
- 需求类型：技术难题
- 用户姓名：总站
- 所在地：江苏省苏州吴江市
- 投入预算： 500
需求详情
要求低温彩膜（color filter）加工工艺小于100-120℃，能够实现像素化，像素大小约为5um*5um，采用干刻或者湿刻技术，刻蚀精度小于0.5um，无Tape角要求，能够对应每天4片Wafe的加工量，应用于硅基OLED微显示器的全彩化。
（来源：中科院苏州育成中心、苏州市生产力促进中心）
- 用户留言
暂时还没有用户留言