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一种用于激光分子束外延设备中的衬底加热器

一种用于激光分子束外延设备中的衬底加热器


  • 应用领域: 装备制造
  • 技术领域: 先进制造技术
  • 技术成熟度: 可以量产
  • 交易类型: 完全转让,许可转让,技术入股,合作开发
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本发明涉及用于激光分子束外延设备的衬底加热器包括炉盘,在炉盘底上开有至少2个固定孔,固定孔中穿入螺钉,该螺钉在漏出底座上的一段上套有垫片或螺母,在其上放上隔热板和垫片或螺母;炉丝板2两端有通孔,和板面上开有螺旋槽,螺旋槽内缠绕炉丝;压片压放在缠绕好炉丝上面,压片两端也有通孔,其通孔的位置与炉丝板上通孔的位置相对应,通过螺母将压片、炉丝板、隔热板固定在炉盘上;在炉盘和隔热板的对称位置上各打2个圆孔,作为炉丝的炉丝引线的孔,炉丝引线与炉丝和加热器的电源电连接。加热器的电源选用低纹波的直流稳压电源,炉丝采用扁螺旋形绕制和选用低纹波的直流稳压电源,消除了炉丝电流产生磁场对RHEED的影响
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