光学灰度掩模是微纳光学元器件、各种三维微纳米结构批量制作的模板，已经广泛用于微光学、微机械、微电子等行业。
光学灰度掩模是通过改变掩模版上不同位置的光透射率，进而控制光学曝光时光刻胶上相应位置的曝光强度，实现三维加工的一种技术，较目前处于垄断地位的美国专利技术-高能束敏感 ( HEBS ）玻璃技术更为简单和便宜。该技术采用的 HEBS 玻璃制作复杂，生产成本很高，并且 需要真空电子束直写，进一步提高了HEBS 玻璃灰度掩模的价格。另外 ，掩模制作过程中电子束的散射也会带来邻近效应和不同深度处的灰度分布不均，降低复杂结构的实际分辨率。
