有机光电器件湿法微加工中溶剂等对器件性能的损害及传统刻蚀技术限制微纳图案分辨率均阻碍了高分子在有机光电集成器件方面的应用。
长春应化所发展了以界面相互作用力为图案化驱动力的转移打印技术，实现了有机光电器件中的金属电极、有机小分子、介电层以及功能高分子薄膜在平面、曲面和柔性衬底上的二维和三维的干法图案化，解决了有机光电器件中器件与器件之间的窜扰现象和湿法微加工中溶剂等对有机光电器件性能的损害。实现了图案尺寸、间距、形状等可调、具有多级结构以及感知环境变化的微/纳图案化高分子薄膜。为发展不依赖于传统刻蚀技术、突破传统刻蚀技术表面物理化学性质限制的微纳有序图案的构筑和调控开辟出新途径，奠定了高分子薄膜在有机光电器件领域的应用基础。
高分子薄膜有序图案构筑相关研究于2010年获得吉林省科学技术进步一等奖，授权中国发明专利5项、申请中国发明专利9项。
