当一束激励X射线照射到样品上，镀层和基底中的元素都放射出特征荧光X射线(XRF)。镀层荧光X射线的强度随镀层厚度而增加；基底荧光X射线的强度随镀层厚度而降低。根据这类关系，测定荧光X射线的强度,便可以计算出镀层的厚度。普通XRF仪器的照射区域比较大,不适用于精微细小、形状复杂的样品。微区XRF仪器将微束X射线集中照射在很小的区域内(专利ZL94112117.8),采用激光定位技术(专利ZL97235392.5),能方便地选择样品上任意部位进行精确测量。XRF微区镀层测厚仪的国内市场需求量每年约300台,（以每台２０万计算，每年需求额约６０００万元），绝大部分来自三家外国公司(美国CMI公司，德国Fischer公司和日本精工舍公司)。中国科学院上海应用物理研究所凝聚其30多年从事X射线荧光(XRF)技术研究的经验，结合其近年来在微区分析领域取得的成果，于１９９４年研制成功XRF系列微区镀层测厚仪，受到用户好评。这项研究成果的目标是在镀层质量检验中，用我国高新科学技术，取代昂贵的进口仪器。

该项产品已通过国家技术监督局鉴定，性能指标达到进口仪器的水平，它的价格只有进口仪器的几分之一，是一种比较先进而实用的质量检验仪器，适合于电子元件，精密机械，钟表眼镜，制笔工艺，珠宝首饰及其它电镀行业推广使用。