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紫外深层光刻机
应用领域：
装备制造
技术领域：
先进制造技术
技术成熟度：
通过小试
交易类型：
完全转让,许可转让
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本机是中国科学院光电技术研究所发挥微细加工光刻设备研制技术优势，据市场需求开展创新应用研制成功的一种新型深紫外（365nm）光刻设备。具有分辨率高，套刻准，线条陡直，线条高宽比大，曝光速度快，自动化程度和可靠性高等特点。微电子，微光学、微机械系统、MEMS、红外器件、光学分刻板、生物芯片、准LIGA及声表面波等器件的研制和生产深层光刻中具有突出的功能和用途。采用微机控制，光学系统采用特殊的消衍射和线条陡直增强技术及曝光均匀性和能量自动检测系统等。
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