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多靶磁控溅射设备

多靶磁控溅射设备


  • 应用领域： 新材料,装备制造
  • 技术领域： 电子信息技术,先进制造技术
  • 技术成熟度： 可以量产
  • 交易类型： 完全转让,许可转让,技术入股
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多靶磁控溅射设备

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主要特点 ●灵活搭配国内外各种真空系统：德国莱宝、安捷伦、中科科仪等品牌真空泵； ●先进的压力控制系统，波动小、稳定性高； ●结构设计紧凑，重量轻，占地面积小，运输、安装方便； ●可溅射金属、无机物，镀膜精度可达到nm量级。 应用领域 表面镀膜、新材料制备等领域。
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