一种基于无掩模直写光刻的光学窗口透射波前修正方法
- 申请号：CN201910905813.8
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院光电技术研究所
- 公开(公开)号：CN110658695A
- 公开(公开)日：20200107
- 法律状态：
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专利详情
| 专利名称 | 一种基于无掩模直写光刻的光学窗口透射波前修正方法 | ||
| 申请号 | CN201910905813.8 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN110658695A | 公开（授权）日 | 20200107 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 罗先刚;王炯;蒲明博;马晓亮;李雄;赵泽宇 |
| 主分类号 | G03F7/20 | IPC主分类号 | |
| 专利有效期 | 一种基于无掩模直写光刻的光学窗口透射波前修正方法 至一种基于无掩模直写光刻的光学窗口透射波前修正方法 | 法律状态 | |
| 说明书摘要 | |||
交易流程
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01
选取所需
专利 -
02
确认专利
可交易 - 03 签订合同
- 04 上报材料
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05
确认变更
成功 - 06 支付尾款
- 07 交付证书
过户资料
平台保障
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