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具有多层介孔孔壁的二氧化硅中空球及其合成方法

  • 申请号:CN200610144192.9
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院过程工程研究所
  • 公开(公开)号:CN101190790B
  • 公开(公开)日:20080604
  • 法律状态:
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 具有多层介孔孔壁的二氧化硅中空球及其合成方法
申请号 CN200610144192.9 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN101190790B 公开(授权)日 20080604
申请(专利权)人 中国科学院过程工程研究所 发明(设计)人 郭晨;羊彬;刘会洲
主分类号 C01B33/18 IPC主分类号
专利有效期 具有多层介孔孔壁的二氧化硅中空球及其合成方法 至具有多层介孔孔壁的二氧化硅中空球及其合成方法 法律状态
说明书摘要

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    成功
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