测量微纳米级薄膜线延伸率和薄膜面延展率的方法
- 申请号：CN201010292164.8
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院上海光学精密机械研究所
- 公开(公开)号：CN101979995B
- 公开(公开)日：20110223
- 法律状态：
- 出售价格： 面议 立即咨询
专利详情
| 专利名称 | 测量微纳米级薄膜线延伸率和薄膜面延展率的方法 | ||
| 申请号 | CN201010292164.8 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN101979995B | 公开（授权）日 | 20110223 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 顿爱欢;魏劲松;干福熹 |
| 主分类号 | G01N3/28 | IPC主分类号 | |
| 专利有效期 | 测量微纳米级薄膜线延伸率和薄膜面延展率的方法 至测量微纳米级薄膜线延伸率和薄膜面延展率的方法 | 法律状态 | |
| 说明书摘要 | |||
交易流程
-
01
选取所需
专利 -
02
确认专利
可交易 - 03 签订合同
- 04 上报材料
-
05
确认变更
成功 - 06 支付尾款
- 07 交付证书
过户资料
平台保障
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障
- 用户留言
暂时还没有用户留言