一种大长径比管件内腔磁控溅射设备和制备α-Ta涂层的方法
- 申请号：CN201811036489.2
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院金属研究所;东北大学
- 公开(公开)号：CN109735812A
- 公开(公开)日：20190510
- 法律状态：
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专利详情
| 专利名称 | 一种大长径比管件内腔磁控溅射设备和制备α-Ta涂层的方法 | ||
| 申请号 | CN201811036489.2 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN109735812A | 公开（授权）日 | 20190510 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院金属研究所;东北大学 | 发明（设计）人 | 牛云松;朱圣龙;王福会;陈明辉 |
| 主分类号 | C23C14/35 | IPC主分类号 | |
| 专利有效期 | 一种大长径比管件内腔磁控溅射设备和制备α-Ta涂层的方法 至一种大长径比管件内腔磁控溅射设备和制备α-Ta涂层的方法 | 法律状态 | |
| 说明书摘要 | |||
交易流程
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选取所需
专利 -
02
确认专利
可交易 - 03 签订合同
- 04 上报材料
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05
确认变更
成功 - 06 支付尾款
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