专利详情

专利名称	一种用于大面积光栅制造的涂布装置及方法
申请号	CN201711096951.3	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN107899891A	公开（授权）日	2018.04.13
申请（专利权）人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	发明（设计）人	巴音贺希格;李烁;宋莹;李文昊;刘兆武;王玮;吕强
主分类号	B05C11/10(2006.01)I	IPC主分类号	B05C11/10(2006.01)I;B05C13/02(2006.01)I;B05C5/00(2006.01)I
专利有效期	一种用于大面积光栅制造的涂布装置及方法至一种用于大面积光栅制造的涂布装置及方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及一种用于大面积光栅制造的涂布装置及一种涂布方法。本发明公开的用于大面积光栅制造的涂布装置包括：基片运动模块、涂布模头模块、升降模块、液体循环模块和基片调整模块。该涂布装置具有涂布膜层厚度范围广，涂布液体利用率高、膜厚均匀性好、对基片形状尺寸敏感度低等显著优点，可满足米级尺寸光栅高均匀性、亚微米厚度薄膜涂布。