一种二氧化锡复合涂层及其制备方法
- 申请号:CN201710533515.1
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中科院微电子研究所昆山分所
- 公开(公开)号:CN107298583A
- 公开(公开)日:2017.10.27
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种二氧化锡复合涂层及其制备方法 | ||
申请号 | CN201710533515.1 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN107298583A | 公开(授权)日 | 2017.10.27 |
申请(专利权)人 | 中科院微电子研究所昆山分所 | 发明(设计)人 | 杜勇;王广欣;崔立虎 |
主分类号 | C04B35/457(2006.01)I | IPC主分类号 | C04B35/457(2006.01)I;C04B35/622(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I |
专利有效期 | 一种二氧化锡复合涂层及其制备方法 至一种二氧化锡复合涂层及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明提供了一种二氧化锡复合涂层及其制备方法,所述二氧化锡复合涂层的制备方法包括以下步骤:a)将二氧化锡和石墨烯混合,依次进行等静压成型和烧结,得到石墨烯/SnO2复合陶瓷靶材;b)将步骤a)得到的石墨烯/SnO2复合陶瓷靶材进行磁控溅射,得到二氧化锡复合涂层。与现有技术相比,本发明采用石墨烯对二氧化锡进行掺杂改性,通过控制制备工艺及参数条件,提高石墨烯的掺杂率、减少杂质,并且制备得到的二氧化锡复合涂层厚度均匀,对气敏材料性能的提升有重要意义。实验结果表明,本发明制备得到了石墨烯掺杂的二氧化锡复合涂层,掺杂率高且杂质少;所述二氧化锡复合涂层的厚度均匀,为1μm~5μm。 |
交易流程
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专利 -
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