专利详情

专利名称	可饱和吸收体制备方法及反射式、透射式可饱和吸收体
申请号	CN201811044919.5	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN109167245A	公开（授权）日	2019.01.08
申请（专利权）人	中国科学院西安光学精密机械研究所	发明（设计）人	程光华;张国栋;赵卫
主分类号	H01S3/11(2006.01)I	IPC主分类号	H01S3/11(2006.01)I;H01S3/098(2006.01)I;H01S3/106(2006.01)I
专利有效期	可饱和吸收体制备方法及反射式、透射式可饱和吸收体至可饱和吸收体制备方法及反射式、透射式可饱和吸收体	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及激光器的可饱和吸收体，针对现有可饱和吸收体导热性差、稳定性低、光谱响应窄、制备工艺复杂、工作寿命短、生产成本高等问题，而提供一种可饱和吸收体制备方法及反射式、透射式可饱和吸收体。其中，可饱和吸收体制备方法，包括以下步骤：1)将二维纳米材料分散于分散液中，进行超声处理，得到二维纳米材料分散液；2)将多孔玻璃放置于二维纳米材料分散液中，在超声条件下进行筛选吸附，形成多孔玻璃与二维纳米材料复合体；3)将多孔玻璃与二维纳米材料复合体取出，干燥；4)对经过干燥处理后的多孔玻璃与二维纳米材料复合体退火；5)对退火后的多孔玻璃与二维纳米材料复合体进行切割，抛光，得到可饱和吸收体。