专利详情

专利名称	极紫外光刻掩模多层膜相位型缺陷底部形貌检测方法
申请号	CN201810916327.1	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN109031894A	公开（授权）日	2018.12.18
申请（专利权）人	中国科学院上海光学精密机械研究所	发明（设计）人	成维;李思坤;王向朝;张恒;孟泽江
主分类号	G03F7/20(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/20(2006.01)I;G03F1/62(2012.01)I;G03F1/44(2012.01)I
专利有效期	极紫外光刻掩模多层膜相位型缺陷底部形貌检测方法至极紫外光刻掩模多层膜相位型缺陷底部形貌检测方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种极紫外光刻掩模多层膜相位型缺陷底部形貌检测方法。该方法包括建模和检测两部分。在建模阶段，首先利用光刻仿真软件仿真含多层膜相位型缺陷的空白掩模在不同照明条件下的空间像。然后采用傅里叶扫描相干衍射成像技术(Fourier?Ptychography?Imaging，FPI)对空间像进行相位恢复，最后利用人工神经网络建立以空间像信息为输入、掩模多层膜相位型缺陷底部形貌参数为输出的检测模型。在检测阶段，采集实际掩模空间像，利用检测模型求解出实际掩模缺陷的底部形貌参数，实现掩模多层膜相位型缺陷底部形貌检测。本发明可快速准确检测极紫外光刻掩模多层膜相位型缺陷底部的形貌。