专利详情

专利名称	一种红外焦平面非均匀性校正方法
申请号	CN201810315002.8	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN108519161A	公开（授权）日	2018.09.11
申请（专利权）人	中国科学院上海技术物理研究所	发明（设计）人	陈忻;赵云峰;饶鹏;夏晖;韩冰
主分类号	G01J5/00(2006.01)I	IPC主分类号	G01J5/00(2006.01)I
专利有效期	一种红外焦平面非均匀性校正方法至一种红外焦平面非均匀性校正方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种红外焦平面非均匀性校正方法。该方法将红外相机以一定速度分别沿着红外焦平面的行方向和列方向扫描，并采集图像数据。将行方向扫描的多帧图像，以像元为单位构建数据向量集，计算各像元向量集的各阶统计参数，并根据同一行像元扫描成像场景的一致性，精确计算同一行像元非均匀性校正参数的相关性。同样根据列扫描方向的多帧图像，可得同列像元非均匀性校正参数的相关性。联立各像元的非均匀性校正参数的行间相关性和列间相关性方程，计算得红外焦平面的非均匀性校正参数。本发明可在无需参考源的情况下，快速精确地完成红外焦平面的非均匀性校正。