一种平面全息光栅扫描曝光装置
- 申请号:CN201810132422.2
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
- 公开(公开)号:CN108415110A
- 公开(公开)日:2018.08.17
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种平面全息光栅扫描曝光装置 | ||
申请号 | CN201810132422.2 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN108415110A | 公开(授权)日 | 2018.08.17 |
申请(专利权)人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明(设计)人 | 巴音贺希格;宋莹;唐玉国;王玮;齐向东;李文昊 |
主分类号 | G02B5/18(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B5/18(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
专利有效期 | 一种平面全息光栅扫描曝光装置 至一种平面全息光栅扫描曝光装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明提供的平面全息光栅扫描曝光装置,包括光源激光、准直系统、干涉图样生成单元、用于承载干涉图样生成单元的X向运动工作台、Y向运动工作台及控制器,干涉图样生成单元生成的两束相干光束分别是第一相干光束和第二相干光束,所述第一相干光束和所述第二相干光束在所述Y向运动工作台上相交形成干涉图样,在所述控制器的控制下,所述X向运动工作台沿X向进行步进运动,所述Y向运动工作台沿Y向进行往复运动,可以利用毫米级干涉图样进行平面全息光栅的扫描曝光,避免了传统平面全息光栅曝光装置中,大口径光学元件上的瑕疵对光栅制作的影响,且可以对曝光过程中的扰动进行扫描均化,系统组成较为简单、成本较低、对环境要求较低。 |
交易流程
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专利 -
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确认专利
可交易 - 03 签订合同
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过户资料
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