一种用于纳米位移测量的修正方法
- 申请号：CN201711370214.8
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院光电技术研究所
- 公开(公开)号：CN108036729A
- 公开(公开)日：2018.05.15
- 法律状态：实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 一种用于纳米位移测量的修正方法 | ||
| 申请号 | CN201711370214.8 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN108036729A | 公开（授权）日 | 2018.05.15 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 何渝;冯金花;刘俊伯;谷林 |
| 主分类号 | G01B11/02(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B11/02(2006.01)I |
| 专利有效期 | 一种用于纳米位移测量的修正方法 至一种用于纳米位移测量的修正方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本发明公开了一种用于纳米位移测量的修正方法，该方法对光栅偏振调制纳米位移测量方法的计算模型进行了修正，通过高精度纳米位移台进行扫描标定，拟合计算确定修正模型的参数，再应用最优化算法得出位移量。本方法综合考虑了测量系统中的光学成像光强变化、光栅周期的不一致性以及电信号处理过程非线性的误差，更加符合测量系统的实际工程使用情况，测量准确性更高。 | ||
交易流程
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01
选取所需
专利 -
02
确认专利
可交易 - 03 签订合同
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成功 - 06 支付尾款
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过户资料
平台保障
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