专利详情

专利名称	一种适合深空微区分析的自适应激光光谱及成像方法
申请号	CN201710950101.9	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN107884339A	公开（授权）日	2018.04.06
申请（专利权）人	中国科学院上海技术物理研究所	发明（设计）人	万雄;王泓鹏;袁汝俊;张铭;何强
主分类号	G01N21/01(2006.01)I	IPC主分类号	G01N21/01(2006.01)I;G01N21/27(2006.01)I;G01N21/64(2006.01)I;G01N21/65(2006.01)I;G01N21/73(2006.01)I
专利有效期	一种适合深空微区分析的自适应激光光谱及成像方法至一种适合深空微区分析的自适应激光光谱及成像方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种适合深空微区分析的自适应激光光谱及成像方法，该方法是在一种自适应激光光谱及成像探测系统上实现的，该方法包括预期焦斑自适应聚焦标定、探测对象单点紧聚焦、拉曼荧光及成像信息获取、拉曼荧光成像扫描微区分析、LIBS扫描微区分析及信息融合等五个步骤。本发明的有益效果是，提供了一种自适应激光光谱及成像探测方法，可在微区分析时自适应地调整聚焦光斑的直径；将电子目镜的区域平均灰度作为扫描成像点强度，同时满足自聚焦和宽谱扫描成像的要求；可同时实现三维空间LIBS元素分析、主动激光拉曼分子分析、高光谱荧光、可见宽谱扫描成像，提供多种信息以进行微区精细探测。