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一种在钼或钼合金表面制备硅化钼涂层的方法

  • 申请号:CN201710791688.3
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海硅酸盐研究所
  • 公开(公开)号:CN107675120A
  • 公开(公开)日:2018.02.09
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种在钼或钼合金表面制备硅化钼涂层的方法
申请号 CN201710791688.3 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN107675120A 公开(授权)日 2018.02.09
申请(专利权)人 中国科学院上海硅酸盐研究所 发明(设计)人 牛亚然;翟翠红;赵君;李红;郑学斌;孙晋良;丁传贤
主分类号 C23C4/134(2016.01)I IPC主分类号 C23C4/134(2016.01)I;C23C4/10(2016.01)I;C23C4/18(2006.01)I
专利有效期 一种在钼或钼合金表面制备硅化钼涂层的方法 至一种在钼或钼合金表面制备硅化钼涂层的方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明涉及一种在钼或钼合金表面制备硅化钼涂层的方法,以硅粉为原料,采用等离子体喷涂技术在钼或钼合金基体表面制备硅涂层,然后置于惰性气氛中在1000~1500℃下热处理1~10小时,从而在钼或钼合金基体表面形成硅化钼涂层。该制备方法具有工艺简单、成本低、效率高、可重复性好、适合规模化生产等优点。

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