专利详情

专利名称	一种磁共振投影成像方法及装置
申请号	CN201710647398.1	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN107621616A	公开（授权）日	2018.01.23
申请（专利权）人	国家纳米科学中心	发明（设计）人	刘文韬;曹玉鹏;韩东
主分类号	G01R33/48(2006.01)I	IPC主分类号	G01R33/48(2006.01)I;G01R33/561(2006.01)I;G01R33/565(2006.01)I
专利有效期	一种磁共振投影成像方法及装置至一种磁共振投影成像方法及装置	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提供一种磁共振投影成像方法及装置，所述方法包括，用非选层脉冲将磁化矢量激发到磁场空间的横平面；用系统允许最大梯度爬坡速率打开相位编码梯度，同时用系统允许最大梯度爬坡速率打开读出预散相梯度；当相位编码达到k空间对应的预设位置时且读出预散相也达到k空间对应的预设位置时，关闭相位编码梯度和读出预散相梯度；在相位编码和读出预散相都完成之后，用系统允许最大梯度爬坡速率打开读出梯度；在读出梯度爬升至平台期之后，采集信号；在读出方向和层方向同时打开相位打散梯度。本发明提供的磁共振投影成像方法及装置，实现一次直接完成投影成像，加速了扫描速度，提高了投影成像的时间分辨率，抑制了由于运动引起的图像伪影。