专利详情

专利名称	利用离子溅射法制备检测基板膜的方法
申请号	CN201710824974.5	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN107620036A	公开（授权）日	2018.01.23
申请（专利权）人	中国科学院合肥物质科学研究院	发明（设计）人	孔明光;吴兵;刘玲
主分类号	C23C14/18(2006.01)I	IPC主分类号	C23C14/18(2006.01)I;C23C14/46(2006.01)I;C23C14/32(2006.01)I
专利有效期	利用离子溅射法制备检测基板膜的方法至利用离子溅射法制备检测基板膜的方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提供一种利用离子溅射法制备检测基板膜的方法，属于颗粒膜制备技术领域，包括：1)将检测基板表面进行酸洗，作为基片；2)对离子溅射仪进行矫正，预设目标银颗粒膜粒径；3)采用离子溅射的方法以银靶材为初始材料，在基片衬底上蒸镀银颗粒膜，设置初始蒸镀时间，确定基片上实际银颗粒膜粒径；4)判定若实际银颗粒膜粒径小于目标银颗粒膜粒径，执行步骤5)，否则执行步骤6)；5)在初始蒸镀时间基础上增加蒸镀时间，重新蒸镀银靶材，并测定实际银颗粒膜粒径，并重复步骤4)；6)判定银颗粒膜是否合格。该离子溅射法根据银颗粒膜在不同的蒸镀时间下测定银颗粒的峰位，从而确定精准的银颗粒膜粒径，以便提高检测基板膜检测的准确性。