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钙钛矿型镧钛氮氧化物半导体光催化剂及其制备和应用

  • 申请号:CN201610537120.4
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院大连化学物理研究所
  • 公开(公开)号:CN107583661A
  • 公开(公开)日:2018.01.16
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 钙钛矿型镧钛氮氧化物半导体光催化剂及其制备和应用
申请号 CN201610537120.4 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN107583661A 公开(授权)日 2018.01.16
申请(专利权)人 中国科学院大连化学物理研究所 发明(设计)人 杨明辉;熊锋强;万里鹏;李悦;焦雨桐
主分类号 B01J27/24(2006.01)I IPC主分类号 B01J27/24(2006.01)I;C01B13/02(2006.01)I
专利有效期 钙钛矿型镧钛氮氧化物半导体光催化剂及其制备和应用 至钙钛矿型镧钛氮氧化物半导体光催化剂及其制备和应用 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 以La2TiO5作为单一前驱体,在高温氨气氛下进行热氨解氮化,制备吸收带边为600nm左右的无EPR和UV?Vis?NIR光谱可探测的缺陷的LaTiO2N半导体,惰性气氛退火处理,得到缺陷浓度可调变的LaTiO2N,提高LaTiO2N光催化活性。或者以La2Ti2O7作为单一前驱体,在高温氨气氛下进行热氨解氮化,制备具有缺陷的LaTiO2N半导体,惰性气氛退火处理进一步增加缺陷浓度,提高LaTiO2N光催化活性。本方法中,La2TiO5作为前驱体能够有效抑制高温氮化过程中Ti的还原,抑制低价Ti缺陷或杂相的形成,为缺陷浓度调控提供全范围基础;采用简单的惰性气氛退火处理形成阴离子空位缺陷,通过改变退火参数方便地调变缺陷浓度,实现光催化活性优化。

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