专利详情

专利名称	光电经纬仪光学系统变形测试系统
申请号	CN201821544393.2	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN208921103U	公开（授权）日	2019.05.31
申请（专利权）人	中国科学院西安光学精密机械研究所	发明（设计）人	赵怀学; 周艳; 田留德; 赵建科; 薛勋; 潘亮; 胡丹丹; 刘艺宁; 张洁; 曹昆; 李坤; 赛建刚; 昌明
主分类号	G01C1/02	IPC主分类号	G01C1/02; G01C25/00
专利有效期	光电经纬仪光学系统变形测试系统至光电经纬仪光学系统变形测试系统	法律状态
说明书摘要	本实用新型涉及光学系统变形量测试领域，具体涉及一种光电经纬仪光学系统变形测试系统。系统仅由目标模拟器及夹持机构组成，测试时，将目标模拟器通过夹持机构固定在待测光电经纬仪上，每调整一次光电经纬仪的俯仰角度，记录一次目标脱靶量，最后通过最小二乘法拟合光电经纬仪指向精度系统误差修正曲线，旨在实现光电经纬仪在不同俯仰角下，光学系统方位和俯仰方向变形量的连续采样和高精度测量，提高光电经纬仪指向精度。