用于去除铜表面铌镀层的化学退镀液和退镀方法
- 申请号：CN201711186414.8
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院近代物理研究所
- 公开(公开)号：CN108085684A
- 公开(公开)日：2018.05.29
- 法律状态：实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 用于去除铜表面铌镀层的化学退镀液和退镀方法 | ||
| 申请号 | CN201711186414.8 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN108085684A | 公开（授权）日 | 2018.05.29 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院近代物理研究所 | 发明（设计）人 | 初青伟;谭腾;何源;郭浩;熊平然;游志明 |
| 主分类号 | C23F1/26(2006.01)I | IPC主分类号 | C23F1/26(2006.01)I |
| 专利有效期 | 用于去除铜表面铌镀层的化学退镀液和退镀方法 至用于去除铜表面铌镀层的化学退镀液和退镀方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 一种用于去除铜表面铌镀层的化学退镀液和退镀方法，所述化学退镀液包括：质量浓度为0.1?0.5％的间硝基苯磺酸盐、质量浓度为1.0?4.0％的氢氟酸和质量浓度为0.8?2.0％的氟硼酸。本发明在不损伤铜基材表面的情况下，可以简单、迅速、稳定、完全去除铜基材表面的铌镀层，完好地回收利用已镀铌膜的铜制品。 | ||
交易流程
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