一种大面积超分辨光刻装置
- 申请号：CN201711346477.5
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院光电技术研究所
- 公开(公开)号：CN108089409A
- 公开(公开)日：2018.05.29
- 法律状态：实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 一种大面积超分辨光刻装置 | ||
| 申请号 | CN201711346477.5 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN108089409A | 公开（授权）日 | 2018.05.29 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 罗先刚;赵承伟;李猛;王长涛;赵泽宇 |
| 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 专利有效期 | 一种大面积超分辨光刻装置 至一种大面积超分辨光刻装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本发明公开了一种大面积超分辨光刻装置，属于超分辨光刻设备的技术领域。该装置包括隔振地基、主动隔振平台、主基板、紫外曝光光源、间隙检测系统、对准模块、超分辨光刻镜头模块、工件台模块、激光干涉测量系统、超精密环控系统和控制系统。该设备通过干涉技术，实现了纳米量级精度的在线间隙检测；通过精密调平和间隙控制技术，实现了几十纳米量级间隙光刻功能；通过承片台局部气控技术，实现了大面积超分辨步进光刻功能。 | ||
交易流程
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