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基于柔性材料的超分辨光刻装置

  • 申请号:CN201711316114.7
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所
  • 公开(公开)号:CN107817653A
  • 公开(公开)日:2018.03.20
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 基于柔性材料的超分辨光刻装置
申请号 CN201711316114.7 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN107817653A 公开(授权)日 2018.03.20
申请(专利权)人 中国科学院光电技术研究所 发明(设计)人 罗先刚;赵承伟;李猛;王长涛;王彦钦;罗云飞
主分类号 G03F7/20(2006.01)I IPC主分类号 G03F7/20(2006.01)I
专利有效期 基于柔性材料的超分辨光刻装置 至基于柔性材料的超分辨光刻装置 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明公开了一种基于柔性材料的超分辨光刻装置,包括光源系统、掩模吸附板、掩模、柔性基片、承片台、密封球耳、弹性薄膜、弹性薄膜压板、升降台、精密气压控制系统。光源系统位于掩模的上方,掩模吸附板上开有环形槽,通过抽取真空,掩模吸附在掩模吸附板上,柔性基片位于掩模下方,柔性基片置于承片台表面,承片台表面开有环形气槽,柔性基片被真空吸附在承片台上,密封球耳安装在承片台上,承片台开有台阶孔,弹性薄膜通过弹性薄膜压板固定在台阶孔内,弹性薄膜与承片台形成密闭空间,台阶孔侧壁开有气孔与精密气压控制系统相连,承片台下表面与升降台相连,可以调节基片与掩模之间距离。解决了基片与掩模之间憋气问题对超分辨光刻的影响。

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