
一种超导腔氮掺杂方法
- 申请号:CN201711479415.1
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院高能物理研究所
- 公开(公开)号:CN108277450A
- 公开(公开)日:2018.07.13
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种超导腔氮掺杂方法 | ||
申请号 | CN201711479415.1 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN108277450A | 公开(授权)日 | 2018.07.13 |
申请(专利权)人 | 中国科学院高能物理研究所 | 发明(设计)人 | 沙鹏;刘佰奇;董超;郑洪娟;米正辉;翟纪元 |
主分类号 | C23C8/24(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C8/24(2006.01)I;C23C8/02(2006.01)I;C23F3/06(2006.01)I |
专利有效期 | 一种超导腔氮掺杂方法 至一种超导腔氮掺杂方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明公开了一种超导腔氮掺杂方法。本方法为:1)将超导腔整体放入超声清洗池进行清洗,再用纯水将超导腔内、外均冲洗干净、晾干;然后对超导腔的内表面进行缓冲化学抛光;然后清洗超导腔内表面、晾干;2)将步骤1)处理后的所述超导腔放入真空炉中进行加热,加热至设定温度后,在该设定温度和压力对真空炉进行除氢处理;3)除氢处理结束后,将真空炉的抽气阀门关闭,注入高纯氮气且真空炉内压力保持在2~4Pa,将氮掺入超导腔表面;4)氮气注入结束后,对真空炉进行除氮气处理;5)除氮气处理结束后,对真空腔保温设定时间,完成超导腔的氮掺杂。本发明能够进一步降低超导腔的表面电阻,从而减小超导腔的功耗。 |
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