专利详情

专利名称	红外宽带减反射微结构及其制备方法
申请号	CN201810516821.9	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN108710164A	公开（授权）日	2018.10.26
申请（专利权）人	中国科学院上海光学精密机械研究所	发明（设计）人	崔云;费亮;赵元安;朱美萍;晋元霞;易葵;邵建达
主分类号	G02B1/11(2015.01)I	IPC主分类号	G02B1/11(2015.01)I
专利有效期	红外宽带减反射微结构及其制备方法至红外宽带减反射微结构及其制备方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种红外宽波段减反射微结构，由下到上依次包括基底、纳米结构阵列层和低折射率层；所述的纳米结构阵列层具有垂直于所述基底表面的主轴，且截面为三角形、圆锥形、抛物线形或高斯形等渐变结构的纳米结构。本发明在纳米结构阵列上添加一层低折射率材料，该低折射率层由离子束溅射沉积技术或电子束蒸发离子束辅助沉积技术实现，以避免水吸收。通过调节低折射率层的厚度，使得纳米结构阵列层的宽带减反射效果得到提升，实现宽波段范围的高透，且透过曲线更加平坦。