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化合物一氟化四硼酸钠和一氟化四硼酸钠非线性光学晶体及制备方法和用途

  • 申请号:CN201810001471.2
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院新疆理化技术研究所
  • 公开(公开)号:CN108286072A
  • 公开(公开)日:2018.07.17
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 化合物一氟化四硼酸钠和一氟化四硼酸钠非线性光学晶体及制备方法和用途
申请号 CN201810001471.2 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN108286072A 公开(授权)日 2018.07.17
申请(专利权)人 中国科学院新疆理化技术研究所 发明(设计)人 潘世烈;张志忠;王颖;侯雪玲
主分类号 C30B29/12(2006.01)I IPC主分类号 C30B29/12(2006.01)I;C30B1/10(2006.01)I;G02F1/355(2006.01)I
专利有效期 化合物一氟化四硼酸钠和一氟化四硼酸钠非线性光学晶体及制备方法和用途 至化合物一氟化四硼酸钠和一氟化四硼酸钠非线性光学晶体及制备方法和用途 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明提供一种化合物一氟化四硼酸钠和一氟化四硼酸钠非线性光学晶体及制备方法和用途,所述化合物的化学式为NaB4O6F,分子量为181.23,采用固相合成法或真空封装法制成;该晶体的化学式为NaB4O6F,分子量为181.23,属于单斜晶系,空间群为C2,晶胞参数为a=11.391(9)?,b=6.521(5)?,c=8.030(6)?,α=90°,β=114.183(9)°,γ=90°,单胞体积为544.2(7)?3,晶体的倍频效应约为KH2PO4(KDP)的1倍,紫外吸收边短于190nm,采用熔体法,高温熔液法,真空封装法,水热法或室温溶液法生长晶体,该晶体的化学稳定性好,可作为紫外、深紫外非线性光学晶体在全固态激光器中获得应用。

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