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基于单个粒子的梯度相位实现Si波导单向散射的方法

  • 申请号:CN201711334932.X
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所
  • 公开(公开)号:CN107942436A
  • 公开(公开)日:2018.04.20
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 基于单个粒子的梯度相位实现Si波导单向散射的方法
申请号 CN201711334932.X 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN107942436A 公开(授权)日 2018.04.20
申请(专利权)人 中国科学院光电技术研究所 发明(设计)人 罗先刚;蒲明博;郭迎辉;马晓亮;李雄
主分类号 G02B6/12(2006.01)I IPC主分类号 G02B6/12(2006.01)I
专利有效期 基于单个粒子的梯度相位实现Si波导单向散射的方法 至基于单个粒子的梯度相位实现Si波导单向散射的方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明公开了一种基于单个粒子的梯度相位实现Si波导单向散射的方法,用于解决现有的Si波导单向散射依赖于多个结构之间的干涉,且不能实现散射方向切换的问题。该方法通过单个粒子的自旋?轨道相互作用,在沿波导传播的方向产生符号(正/负)与入射光手性相关的梯度相位,其作用等效为正入射的圆偏振光提供一个横向传播的波矢,从而实现单向散射,通过改变入射光的手性可以实现不同散射方向的切换,避免了对多个结构之间干涉的依赖,使得系统的工作带宽、鲁棒性以及灵活性得到大幅提高。

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