专利详情

专利名称	一种山莴苣素苦素分子印迹整体柱的制备方法
申请号	CN201710621924.7	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN107262065A	公开（授权）日	2017.10.20
申请（专利权）人	中国科学院新疆理化技术研究所	发明（设计）人	阿吉艾克拜尔·艾萨;杨建;雅森·米吉提;刘照胜
主分类号	B01J20/26(2006.01)I	IPC主分类号	B01J20/26(2006.01)I;B01J20/281(2006.01)I;B01J20/30(2006.01)I;B01D15/20(2006.01)I;G01N30/02(2006.01)I;G01N30/60(2006.01)I
专利有效期	一种山莴苣素苦素分子印迹整体柱的制备方法至一种山莴苣素苦素分子印迹整体柱的制备方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提供一种山莴苣苦素印迹整体柱的制备方法，该方法以少量的山莴苣苦素为模板分子，加入拥挤试剂聚苯乙烯，以四氢呋喃溶液做溶剂，以甲苯做致孔剂，再加入功能单体4?乙烯基吡啶、交联剂二甲基丙烯酸乙二醇酯和引发剂偶氮二异丁腈，然后超声溶解除去溶解氧，在水浴中进行聚合反应，最后得到具有选择性的山莴苣苦素分子印迹整体柱。本发明所述方法模板消耗量少，大大地降低了山莴苣苦素的印迹成本。在不锈钢柱管?(100?mm×4.6?mm)?中成功合成了山莴苣苦素印迹整体柱，以及空白对照柱并进行色谱性能优化。实验结果表明，印迹因子最高可达2.20。该方法制备简单，且高分子聚合物耐用性好，为山莴苣苦素的分离纯化提供了一条新路径。