专利详情

专利名称	一种121.6nm窄带负滤光片及其制备方法
申请号	CN201710481581.9	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN107037521A	公开（授权）日	2017.08.11
申请（专利权）人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	发明（设计）人	王孝东;陈波;王海峰;郑鑫
主分类号	G02B5/20(2006.01)I	IPC主分类号	G02B5/20(2006.01)I;G02B5/26(2006.01)I
专利有效期	一种121.6nm窄带负滤光片及其制备方法至一种121.6nm窄带负滤光片及其制备方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本申请公开了一种121.6nm窄带负滤光片及其制备方法，该方法包括：确定制备121.6nm窄带负滤光片时所需的多层膜的镀膜材料以及相应的基础膜系结构；基于镀膜材料以及基础膜系结构，计算相应的等效导纳以及位相厚度；根据等效导纳以及位相厚度，依次在多层膜与入射介质之间、以及多层膜与基底之间分别进行导纳匹配处理，以对基础膜系结构进行优化，得到优化后膜系结构；根据优化后膜系结构，制备相应的121.6nm窄带负滤光片。本申请可消除由于多层膜与入射介质、基底之间导纳不匹配而使得旁带和可见光波段具有高反射率的现象，而基于上述经过优化处理的膜系结构制备得到的121.6nm负滤光片具有较低的旁带以及可见光波段的反射率，从而有利于提升121.6nm谱线的质量。