
图案化气泡阵列及其制备方法和应用
- 申请号:CN201810464239.2
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院化学研究所
- 公开(公开)号:CN108312659A
- 公开(公开)日:2018.07.24
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 图案化气泡阵列及其制备方法和应用 | ||
申请号 | CN201810464239.2 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN108312659A | 公开(授权)日 | 2018.07.24 |
申请(专利权)人 | 中国科学院化学研究所 | 发明(设计)人 | 黄占东;李正;蔡哲仁;苏萌;宋延林 |
主分类号 | B32B9/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B32B9/00(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I;B32B17/00(2006.01)I;B32B3/08(2006.01)I;B32B1/06(2006.01)I;B32B37/06(2006.01)I;B32B38/18(2006.01)I;B32B38/00(2006.01)I;B32B38/16(2006.01)I |
专利有效期 | 图案化气泡阵列及其制备方法和应用 至图案化气泡阵列及其制备方法和应用 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明涉及材料领域,公开了图案化气泡阵列及其制备方法和应用。该方法包括以下步骤:(A)制备具有多个凸起的图案化结构单元且具有疏液性质的第一基底,相邻的两个图案化结构单元之间的距离D与图案化结构单元的尺寸d的比值不小于2;(B)将液体滴加在所述第一基底的表面,将表面平整的基材盖压在第一基底的表面,得到单层图案化气泡阵列;(C)制备具有多个图案化结构单元且具有疏液性质的第二基底,将液体滴加在所述第二基底的表面,将第一基底的下表面盖压在第二基底的表面,可选地,重复多次,得到多层图案化气泡阵列。该制备方法可以快速大面积地制备单层或多层气泡阵列,制得的气泡阵列能够精确图案化且满足在声波调控中的应用。 |
交易流程
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