专利详情

专利名称	纳米材料的图形化方法
申请号	CN201611252490.X	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN108263106A	公开（授权）日	2018.07.10
申请（专利权）人	中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所	发明（设计）人	袁伟;崔铮;顾唯兵;林剑
主分类号	B41M1/12(2006.01)I	IPC主分类号	B41M1/12(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I
专利有效期	纳米材料的图形化方法至纳米材料的图形化方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种纳米材料的图形化方法，所述图形化方法包括以下步骤：提供一网板、一滤膜及一衬底；将所述网板覆盖于所述滤膜上，丝网印刷聚合物浆料，在所述滤膜的表面形成一图形化的聚合物浆料层；在所述聚合物浆料层的图形化区域沉积纳米材料，形成纳米材料结构；将所述纳米材料结构转印至所述衬底上。本发明提供的纳米材料的图形化方法，通过丝网印刷形成图像化的聚合物浆料层，然后在所述聚合物浆料层的图形化区域沉积纳米材料，形成图形化的纳米材料结构；最后将所述纳米材料结构转印至所述衬底上。所述图像化方法能够有效的实现纳米材料的图形化，提升纳米材料的图形化质量。