专利详情

专利名称	一种均匀气流激光剥蚀池及其应用
申请号	CN201711434961.3	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN107870118A	公开（授权）日	2018.04.03
申请（专利权）人	中国科学院地质与地球物理研究所	发明（设计）人	谢烈文
主分类号	G01N1/44(2006.01)I	IPC主分类号	G01N1/44(2006.01)I;G01N27/62(2006.01)I
专利有效期	一种均匀气流激光剥蚀池及其应用至一种均匀气流激光剥蚀池及其应用	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及一种均匀气流激光剥蚀池及其应用，所述激光剥蚀池包括均匀气流发生器、样品室和样品导出部，所述均匀气流发生器包括壁部、发生器内腔、将发生器内腔分隔成第一缓冲区和第二缓冲区的单层缓冲筛板、在所述第一缓冲区中植入一金属气管，所述金属气管的外端为气体入口，所述金属气管的管壁上设置有至少5个散气孔，孔口开向发生器内腔上壁；所述样品室与第二缓冲区通过一多层筛板气体连通，所述样品导出部与所述样品室流体连通；所述样品导出部设置有导出口。本发明能够提供均匀的气流来降低不同剥蚀位置的粒子传输效率，从而降低位置效应对同位素分馏结果准确度和精确度的影响，在高精度同位素组成分析领域具有重要的应用价值。