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层间距可控的氧化石墨烯膜及其制备方法、应用

  • 申请号:CN201610575159.5
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海应用物理研究所;上海大学
  • 公开(公开)号:CN107640765A
  • 公开(公开)日:2018.01.30
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 层间距可控的氧化石墨烯膜及其制备方法、应用
申请号 CN201610575159.5 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN107640765A 公开(授权)日 2018.01.30
申请(专利权)人 中国科学院上海应用物理研究所;上海大学 发明(设计)人 方海平;吴明红;石国升;徐刚;陈亮
主分类号 C01B32/198(2017.01)I IPC主分类号 C01B32/198(2017.01)I;B01D71/02(2006.01)I;B01D69/02(2006.01)I;B01D67/00(2006.01)I;B01D61/00(2006.01)I
专利有效期 层间距可控的氧化石墨烯膜及其制备方法、应用 至层间距可控的氧化石墨烯膜及其制备方法、应用 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明公开了一种层间距可控的氧化石墨烯膜及其制备方法、应用。其制备方法包括下述步骤:将氧化石墨烯膜浸润在盐的水溶液A中浸润至溶胀后,即得层间距可控的氧化石墨烯膜;盐的水溶液A为含有金属阳离子的溶液,金属阳离子的浓度为0.25~2.5mol/L。本发明可精确控制氧化石墨烯膜的层间通道的尺寸在范围内,以幅度进行精确的尺寸变化;本发明层间距可控的氧化石墨烯膜具有优异的机械强度,渗透实验5h后,仍保持完整的膜状态;制备过程简单,易于操作,使氧化石墨烯膜具有筛选和过滤较小离子的作用,具有良好的应用前景。

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