专利详情

专利名称	双点光源间距的纳米精度测量方法
申请号	CN201710547369.8	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN107462179A	公开（授权）日	2017.12.12
申请（专利权）人	中国科学院上海光学精密机械研究所	发明（设计）人	董冠极;唐锋;王向朝;冯鹏;彭常哲
主分类号	G01B11/14(2006.01)I	IPC主分类号	G01B11/14(2006.01)I;G01B11/00(2006.01)I
专利有效期	双点光源间距的纳米精度测量方法至双点光源间距的纳米精度测量方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种双点光源间距的纳米精度测量方法，将面阵探测器放置在两个点光源下方，建立双点光源干涉场的数学模型，通过控制点光源的开闭并结合图像处理技术，获得点光源间距的粗测值，然后保持两个点光源均打开，采集两个点光源的干涉图，求解干涉相位，按照面阵探测器坐标系，对得到的干涉相位进行泽尼克多项式前9项拟合得到泽尼克多项式系数值。通过计算像差项系数的偏导数，并结合面阵探测器采集到的干涉相位拟合泽尼克多项式的系数值，利用偏导数的定义实现对点光源间距d、点光源的连线中心与面阵探测器光敏面的垂直距离Z、面阵探测器旋转角度θ和面阵探测器倾斜角γ的修正。通过迭代计算，得到点光源间距d的精确值，实现两点光源间距的纳米精度测量。