测定多孔薄膜厚度和孔隙率的方法
- 申请号：CN201710558888.4
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院电子学研究所
- 公开(公开)号：CN107270822A
- 公开(公开)日：2017.10.20
- 法律状态：实质审查的生效
- 出售价格： 面议 立即咨询
专利详情
| 专利名称 | 测定多孔薄膜厚度和孔隙率的方法 | ||
| 申请号 | CN201710558888.4 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN107270822A | 公开（授权）日 | 2017.10.20 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院电子学研究所 | 发明（设计）人 | 祁志美;万秀美;高然;程进 |
| 主分类号 | G01B11/06(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B11/06(2006.01)I;G01N15/08(2006.01)I |
| 专利有效期 | 测定多孔薄膜厚度和孔隙率的方法 至测定多孔薄膜厚度和孔隙率的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本公开提供了一种测定多孔薄膜厚度和孔隙率的方法，其对测得的至少两个测试共振光谱进行仿真拟合，得到多孔薄膜厚度d与其孔隙率P的至少两个P?d函数关系，最后由这至少两个P?d函数关系曲线的交点得到待测多孔薄膜的厚度及孔隙率。本公开不仅实现了直接对多孔薄膜的厚度进行测量，还可同时获得多孔薄膜的孔隙率，具有简便易行、成本低廉、无破坏性等特点，具有较好的应用前景。 | ||
交易流程
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专利 -
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