专利详情

专利名称	一种基于大面积超分辨激光直写系统的图形刻写方法
申请号	CN201710150037.6	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN107145038A	公开（授权）日	2017.09.08
申请（专利权）人	国家纳米科学中心	发明（设计）人	王闯;张浩然;刘前
主分类号	G03F7/20(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/20(2006.01)I
专利有效期	一种基于大面积超分辨激光直写系统的图形刻写方法至一种基于大面积超分辨激光直写系统的图形刻写方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提供一种基于大面积超分辨激光直写系统的图形刻写方法，通过将源图形文件进行一定角度顺时针或逆时针旋转，并沿周期性边界裁剪校正，进而输出多个已分割并编号的单帧刻写图形，用以整合扫描方向和步进方向刻写效果的差异，使得最终刻写出的大面积微纳结构在笛卡尔坐标系的X/Y方向均具有良好的均匀性，大幅度提高了光栅扫描步进式激光直写系统在多种材料上的刻写质量和成品率。通过本发明，使得利用激光直写系统进行器件制备、材料研究的成功率和精确性得到显著提升。