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X射线断层扫描方法及系统

  • 申请号:CN201611173895.4
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:深圳先进技术研究院
  • 公开(公开)号:CN107072022A
  • 公开(公开)日:2017.08.18
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 X射线断层扫描方法及系统
申请号 CN201611173895.4 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN107072022A 公开(授权)日 2017.08.18
申请(专利权)人 深圳先进技术研究院 发明(设计)人 石伟;梁栋;洪序达;蒋昌辉
主分类号 H05G1/38(2006.01)I IPC主分类号 H05G1/38(2006.01)I
专利有效期 X射线断层扫描方法及系统 至X射线断层扫描方法及系统 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明属于X射线成像技术领域,提供了一种X射线断层扫描方法及系统,所述方法包括:在扫描时,控制器按照预设的扫描模式逐个启动多焦斑X光源阵列上的X射线源进行脉冲式发射,并控制当前X射线源按照其预设的脉冲曝光时间照射扫描对象,以使得不同排布位置上的X射线源照射到扫描对象上的表面剂量趋于一致;探测器采集不同排布位置上的X射线源照射到扫描对象后的投影图像,并将所述投影图像传输到终端设备;终端设备根据所述投影图像重建出所述扫描对象的三维图像。本发明通过控制脉冲曝光时间来调整投影图像的质量,相对于调节管电流的方式硬件成本低、调节精度高,且可以在保证成像质量的前提下,有效地降低扫描过程的整体辐射剂量。

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