
环形腔面发射差频太赫兹量子级联激光器结构
- 申请号:CN201710472687.2
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院半导体研究所
- 公开(公开)号:CN107069432A
- 公开(公开)日:2017.08.18
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 环形腔面发射差频太赫兹量子级联激光器结构 | ||
申请号 | CN201710472687.2 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN107069432A | 公开(授权)日 | 2017.08.18 |
申请(专利权)人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明(设计)人 | 程凤敏;张锦川;贾志伟;赵越;周予虹;刘峰奇;王利军;刘俊岐;刘舒曼;王占国 |
主分类号 | H01S5/34(2006.01)I | IPC主分类号 | H01S5/34(2006.01)I;H01S5/343(2006.01)I;H01S1/02(2006.01)I |
专利有效期 | 环形腔面发射差频太赫兹量子级联激光器结构 至环形腔面发射差频太赫兹量子级联激光器结构 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 一种环形腔面发射差频太赫兹量子级联激光器的制备方法,包括如下步骤:步骤1:在一衬底上依序生长下波导层、下光学限制层、第一有源层、间隔层、第二有源层、上光学限制层和上波导层;步骤2:移除上波导层,在上光学限制层上呈放射状向下刻蚀多条光栅,形成一个双周期的环形光栅;步骤3:在刻蚀后的上光学限制层上重新生长上波导层;步骤4:在上波导层上向下刻蚀一环形脊结构,刻蚀深度到达下光学限制层;步骤5:在刻蚀后的环形脊结构的沟槽中填满半绝缘InP:Fe;步骤6:在沟槽中填满半绝缘InP:Fe的环形脊结构上蒸发正面金属电极,镀金;步骤7:将衬底减薄,抛光,在衬底的背面蒸发背面金属电极;步骤8:刻蚀金属电极,制备出二级环形表面金属光栅,完成制备。 |
交易流程
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01
选取所需
专利 -
02
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可交易 - 03 签订合同
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