专利详情

专利名称	一种基于干法清洗工艺制备铜衬底的方法
申请号	CN201510934979.4	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN106884153A	公开（授权）日	2017.06.23
申请（专利权）人	中国科学院上海微系统与信息技术研究所	发明（设计）人	张燕辉;于广辉;葛晓明;张浩然;陈志蓥;隋妍萍;邓荣轩
主分类号	C23C16/02(2006.01)I	IPC主分类号	C23C16/02(2006.01)I;C23C16/26(2006.01)I;C30B25/18(2006.01)I;C30B29/02(2006.01)I
专利有效期	一种基于干法清洗工艺制备铜衬底的方法至一种基于干法清洗工艺制备铜衬底的方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提供一种基于干法清洗工艺制备铜衬底的方法，包括步骤：步骤1），提供制备石墨烯用的铜衬底；步骤2），将所述铜衬底置于有氧环境中处理，使所述铜衬底表面氧化，形成氧化层；以及步骤3），去所述铜除衬底表面的氧化层，得到清洁的铜衬底表面。本发明通过氧化石墨烯生长用铜衬底，使得衬底表面层氧化并从衬底脱落，获得适宜高质量石墨烯制备的清洁铜表面，该方法获得的铜衬底可明显降低成核密度，减少石墨烯中的缺陷。本发明的方法重复性高、简单易行，并且可控性强，适合工业化应用的批量化处理。