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一种对血液中重金属离子高清除的羟基修饰MOF膜及其制备方法

  • 申请号:CN201611242102.X
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院长春应用化学研究所
  • 公开(公开)号:CN106861461A
  • 公开(公开)日:2017.06.20
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种对血液中重金属离子高清除的羟基修饰MOF膜及其制备方法
申请号 CN201611242102.X 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN106861461A 公开(授权)日 2017.06.20
申请(专利权)人 中国科学院长春应用化学研究所 发明(设计)人 尹园;高健;郑春柏;魏巍;柳美华;邓鹏飏
主分类号 B01D71/26(2006.01)I IPC主分类号 B01D71/26(2006.01)I;B01D71/18(2006.01)I;B01D67/00(2006.01)I;A61M1/34(2006.01)I;C08J7/18(2006.01)I;C08L23/12(2006.01)N;C08L23/06(2006.01)N;C08L67/02(2006.01)N
专利有效期 一种对血液中重金属离子高清除的羟基修饰MOF膜及其制备方法 至一种对血液中重金属离子高清除的羟基修饰MOF膜及其制备方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明提供一种对血液中重金属离子高清除的羟基修饰MOF膜及其制备方法,属于MOF膜技术领域。该羟基修饰MOF膜,结构式如式Ⅰ所示。本发明还提供一种对血液中重金属离子高清除的羟基修饰MOF膜的制备方法,该方法先制备溴取代的羟基修饰MOF材料;对溴取代的羟基修饰MOF材料中的羟基进行保护,得到羟基保护的MOF;然后将羟基保护的MOF和格式试剂反应,得到带双键的MOF材料;最后将带双键的MOF材料通过预辐射或共辐照方法接枝在高分子基底材料表面,得到羟基修饰MOF膜。该MOF膜在血液中对Mn2+、Ni2+、Cu2+、Zn2+、Pb2+等重金属离子具有高清除性能且原位捕捉的特点。

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