
一种提高扫频光学相干层析成像分辨率方法
- 申请号:CN201710132621.9
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所
- 公开(公开)号:CN106872407A
- 公开(公开)日:2017.06.20
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种提高扫频光学相干层析成像分辨率方法 | ||
申请号 | CN201710132621.9 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN106872407A | 公开(授权)日 | 2017.06.20 |
申请(专利权)人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明(设计)人 | 卢宇;李中梁;王向朝;南楠;陈艳;王瑄;潘柳华;宋思雨 |
主分类号 | G01N21/45(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N21/45(2006.01)I;G01N21/01(2006.01)I |
专利有效期 | 一种提高扫频光学相干层析成像分辨率方法 至一种提高扫频光学相干层析成像分辨率方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 一种提高扫频光学相干层析成像分辨率方法,该方法需要通过实验获得一个标准k?clock信号,然后利用互相关运算计算出需要校正的k?clock信号的延时。由计算出的延时,将k?clock信号进行左右移动从而对其进行校正,并使用插值算法计算出移动后的k?clock信号的过零点坐标。再次使用插值算法在过零点坐标处对干涉信号进行插值,得到波数域等间隔的干涉信号。将此干涉信号与一个汉明窗函数相乘进行光谱整形,然后再对经过光谱整形后的干涉信号进行快速傅里叶变换,便可得到样品反射率随深度变化的一维曲线,即A?line图像。 |
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