专利详情

专利名称	一种基于双折射材料的光场调制结构设计方法
申请号	CN201710227825.0	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN106842563A	公开（授权）日	2017.06.13
申请（专利权）人	中国科学院光电技术研究所	发明（设计）人	史立芳;王佳舟;曹阿秀;张满;庞辉;邓启凌
主分类号	G02B27/00(2006.01)I	IPC主分类号	G02B27/00(2006.01)I;G02B5/18(2006.01)I;G02B5/30(2006.01)I
专利有效期	一种基于双折射材料的光场调制结构设计方法至一种基于双折射材料的光场调制结构设计方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种基于双折射材料的光场调制结构设计方法。该方法主要采用双折射材料来开展结构的设计，利用双折射材料对于o光和e光折射率不同的特点，可以同时对入射光获得两个相位调制量。双折射材料上面结构的高度是采用迭代计算的方法获得的，对每个像素点设置初始高度，然后计算其分别对应的o光和e光的相位调制量，并且与目标相位调制量相比较取绝对差值，以均方根植作为衡量标准，当均方根值最小值确定该点的高度值。对每个像素点逐点计算，获得所有像素点的高度值。利用该方法实现目标光场偏振态和振幅的调控，不需要复杂的光路，并且用一片结构就可以实现对入射光的不同相位调制，同时衍射效率高。