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大光栅的制造装置和制造方法

  • 申请号:CN201710019314.X
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所
  • 公开(公开)号:CN106772736A
  • 公开(公开)日:2017.05.31
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 大光栅的制造装置和制造方法
申请号 CN201710019314.X 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN106772736A 公开(授权)日 2017.05.31
申请(专利权)人 中国科学院上海光学精密机械研究所 发明(设计)人 周常河;向显嵩;韦春龙;李民康
主分类号 G02B5/18(2006.01)I IPC主分类号 G02B5/18(2006.01)I
专利有效期 大光栅的制造装置和制造方法 至大光栅的制造装置和制造方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 一种大光栅的制造装置和制造方法,该装置包括光源移动模块、基片移动模块和监测控制模块三部分。相比于以往的扫描光束法制造光栅的装置,该装置将光栅基片的二维扫描运动拆分,使用一维精密平移台分别驱动光源和光栅基片,免除了配备二维精密平移台的需求,大大节约了系统成本。该装置构造简单,易于拓展的所制大光栅的面积。结合3轴激光干涉仪定位及闭环调节控制方法,该装置能有效制作出具有高条纹精度和平行度的大光栅。

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