专利详情

专利名称	一种仿生结构立方氮化硼涂层及其制备方法
申请号	CN201510822743.1	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN106756781A	公开（授权）日	2017.05.31
申请（专利权）人	深圳先进技术研究院	发明（设计）人	唐永炳;蒋春磊
主分类号	C23C14/06(2006.01)I	IPC主分类号	C23C14/06(2006.01)I;C23C14/16(2006.01)I;C23C14/18(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I
专利有效期	一种仿生结构立方氮化硼涂层及其制备方法至一种仿生结构立方氮化硼涂层及其制备方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明适用于真空镀膜技术领域，提供了一种仿生结构立方氮化硼涂层及其制备方法。所述仿生结构立方氮化硼涂层涂覆在基底上，所述仿生结构立方氮化硼涂层由底部的韧性层和顶部的高硬层构成，所述高硬层为立方氮化硼层，所述韧性层为M2层与M1B_x:M2掺杂复合层交替沉积形成的多层复合结构，且所述M1B_x:M2掺杂复合层为M2掺杂M1B_x形成的复合层，其中，所述M1、M2为相同或不同的过渡金属，所述x的取值范围为：0.5≤x≤4。