
一种基于夏克?哈特曼波前传感器的光学系统畸变测量方法
- 申请号:CN201611156582.8
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所
- 公开(公开)号:CN106768882A
- 公开(公开)日:2017.05.31
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种基于夏克?哈特曼波前传感器的光学系统畸变测量方法 | ||
申请号 | CN201611156582.8 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN106768882A | 公开(授权)日 | 2017.05.31 |
申请(专利权)人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明(设计)人 | 张俊波;张昂;鲜浩;张学军;魏凌;杨金生 |
主分类号 | G01M11/02(2006.01)I | IPC主分类号 | G01M11/02(2006.01)I |
专利有效期 | 一种基于夏克?哈特曼波前传感器的光学系统畸变测量方法 至一种基于夏克?哈特曼波前传感器的光学系统畸变测量方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 |
本发明涉及一种基于夏克?哈特曼波前传感器的光学系统畸变测量方法,该测量方法中,采用小口径平行光源(1)入射被测光学系统(3),通过扫描像面(5)使夏克?哈特曼波前传感器(7)处于被测光学系统(3)的共焦位置,并记录扫描角度ω'p1,利用夏克?哈特曼波前传感器(7)测量波像差(4)引起的偏移角度ω'p2,进而得到实际出射角ω'p,ω'p=ω'p1+ω'p2,并根据理想出射角ω'o,入射角ω和被测光学系统(3)焦距f',得到不同视场状态下被测光学系统(3)的相对畸变量q和畸变量△y, |
交易流程
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