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一种基于夏克?哈特曼波前传感器的光学系统畸变测量方法

  • 申请号:CN201611156582.8
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所
  • 公开(公开)号:CN106768882A
  • 公开(公开)日:2017.05.31
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种基于夏克?哈特曼波前传感器的光学系统畸变测量方法
申请号 CN201611156582.8 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN106768882A 公开(授权)日 2017.05.31
申请(专利权)人 中国科学院光电技术研究所 发明(设计)人 张俊波;张昂;鲜浩;张学军;魏凌;杨金生
主分类号 G01M11/02(2006.01)I IPC主分类号 G01M11/02(2006.01)I
专利有效期 一种基于夏克?哈特曼波前传感器的光学系统畸变测量方法 至一种基于夏克?哈特曼波前传感器的光学系统畸变测量方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明涉及一种基于夏克?哈特曼波前传感器的光学系统畸变测量方法,该测量方法中,采用小口径平行光源(1)入射被测光学系统(3),通过扫描像面(5)使夏克?哈特曼波前传感器(7)处于被测光学系统(3)的共焦位置,并记录扫描角度ω'p1,利用夏克?哈特曼波前传感器(7)测量波像差(4)引起的偏移角度ω'p2,进而得到实际出射角ω'p,ω'p=ω'p1+ω'p2,并根据理想出射角ω'o,入射角ω和被测光学系统(3)焦距f',得到不同视场状态下被测光学系统(3)的相对畸变量q和畸变量△y,△y=qf'tanω。本发明的测量方法有效地降低了测量成本,提高了测量精度,增强了测量方法的通用性。

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