专利详情

专利名称	一种高温CVD设备
申请号	CN201510419538.0	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN106702345A	公开（授权）日	2017.05.24
申请（专利权）人	中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所	发明（设计）人	鞠涛;张立国;李哲;范亚明;张泽洪;张宝顺
主分类号	C23C16/32(2006.01)I	IPC主分类号	C23C16/32(2006.01)I
专利有效期	一种高温CVD设备至一种高温CVD设备	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及一种高温CVD设备，包括：设有内层侧壁与外层侧壁的双层侧壁，以及分别设置在所述双层侧壁两端的盖体，其特征在于，所述双层侧壁周向设有基准法兰，所述基准法兰沿所述双层侧壁轴向固定限位至少一端的所述盖体。所述盖体包括顶盖、上法兰和下法兰，且所述顶盖、上法兰、下法兰和基准法兰逐层压叠，所述上法兰和所述下法兰之间间隙可调整连接，或/和所述下法兰和所述基准法兰之间间隙可调整连接。上法兰、下法兰和基准法兰两两配合分别通过轴向的挤压使套在外层侧壁和内层侧壁外周的胶圈产生径向形变，从而将法兰和侧壁之间密封起来，同时通过严格控制三个法兰的厚度，以此控制因为负压情况下上、下顶盖对法兰的挤压位移较小或为零，从而侧壁端部受到的轴向应力得到了上限控制。